Применяется главным образом в процессах резки, шлифования, полирования и транспортировки при производстве пластин из кремния, сапфира, арсенида галлия, карбида кремния и прочих материалов.

В качестве высококлассной несущей оснастки для производства чипов изделие отличается высокой твердостью, малой термической деформацией и равномерной воздухопроницаемостью. Возможна поставка изделий размером до 12 дюймов включительно с плоскостностью ≤ 2 мкм. Поверхностное сопротивление 106-108 Ом. Загрязнение ионами металлов крайне низкое. Коэффициент отражения, размер апертур и пористость изготавливаются под заказ в соответствии с нестандартными требованиями.